HEPA對無塵室人員安全及產品良率   
 
 
 
 
 
為維護設備效率及人員環境安全HEPA/ULPA請200H內定期更換

集塵機HEPA/ULPA降低室內空氣品質對工安的危險

半導體或實驗室在室內空間製程中所使用到的化學物質眾多,有毒物質如:AsH3砷化氫、SiH4甲矽烷、SiH2Cl2二氯矽烷、Si2H6乙矽烷、SiHCl3三氯氫矽、GeH4甲鍺烷、PH3磷化氫、NH3氨氣等,對於環境與人體都有危險。這些有毒化學氣體於無塵室機台製程或清潔中會透過集塵機HEPA/ULPA後端排放達到攔截有毒無質的排放避免人員及環境造成傷害

集塵機HEPA/ULPA增加製程的良率

半導體製造業或實驗室在製程中,加工程序如:塗層、乾燥、鍍膜、蝕刻、灰化、去光阻,將反應氣體的化學反應或物理作用及電漿下之薄膜蝕刻物質,會透過集塵機HEPA/ULPA後端排放達到攔截有毒無質的排放避免製程中的不良品增加,造成產品的污染。